《集成电路布图设计保护条例》系统性修订的三个产业信号
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2026-08-04
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《集成电路布图设计保护条例》自2001年实施以来首次系统性修订,扩展保护范围至光子、量子等新一代集成电路,引入独创性声明制度解决维权难问题,并确立1至5倍惩罚性赔偿机制,强化对IC设计企业尤其是硅光、量子芯片等创新主体的知识产权保护,同时提高侵权成本与合规要求。

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2026年7月23日,国务院总理李强签署第842号国务院令,公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》(以下简称《条例》),自2026年10月15日起施行,《条例》共6章54条。这是该条例自2001年10月1日实施以来20多年间的首次系统性修订。

司法部、国家知识产权局在答记者问中明确,此次修订主要涉及扩展保护范围、完善申请登记程序、加大侵权赔偿、促进布图设计运用等多方面。结合官方解读与司法实践,可以读出三个清晰的产业信号。

保护范围从"半导体"扩充至"半导体+光子+量子",立法回应后摩尔时代

修订前《条例》将保护对象明确限定于半导体集成电路。修订后,在与"集成电路"定义有关的条文表述上删除了"半导体集成电路"字样,将集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计也纳入法定保护范围。

这一改动的产业背景是:传统集成电路晶体管制程已趋近工艺与物理边界,光子、量子等新技术路径不断涌现,集成电路迈入以新架构、新机理、新材料、新器件为竞争主线的后摩尔时代。

立法的潜台词是:中国不再是知识产权制度上的保守主义者。删除"半导体"三字,表面是冗余割舍,实质是向光子计算、量子芯片等下一代电路设计企业发出信号:你的布图设计在国内可以获得专有权保护。

这对两类企业影响最直接:一类是从事硅光互连、光电共封装(CPO)的芯片设计公司,其布图设计过去处在保护灰色地带;另一类是量子芯片研发机构,其布图设计现在有了明确的法定权利基础。

独创性声明制度补上"维权难"最大短板

20多年的司法实践中,布图设计专有权的保护范围难以界定一直是权利人最头疼的问题。最高人民法院指导性案例218号(苏州赛某诉深圳裕某案)明确:取得布图设计登记,并不当然意味着登记的布图设计内容具有独创性,权利人仍应当对其主张权利的布图设计的独创性作出合理解释或者说明。

修订后的《条例》针对性地引入独创性声明制度:

  • 申请人提交的复制件或者图样应当包含布图设计的必要信息,能够清楚地显示该布图设计具有独创性的部分

  • 独创性声明应当指明设计区域、设计要点及相应功能

  • 专有权的保护范围以复制件或图样为准,独创性声明用于解释独创性部分

同时,修订还完善了驳回、撤销制度,新增依第三方请求启动的撤销程序:任何人发现登记不符合规定的,可以请求国务院知识产权行政部门撤销布图设计登记,登记被撤销的专有权视为自始即不存在。

此外新增权利恢复程序,当事人因不可抗拒的事由或其他正当理由延误期限导致权利丧失的,可以请求恢复其权利。

这些修改的实务意义是:发生侵权纠纷时,法庭可以更便捷地进行侵权比对。诉讼当事人双方和裁判者都受益。

侵权赔偿从"填平"走向"惩罚",故意侵权最高5倍

在专有权保护方面,修订力度显著加大:侵权赔偿额按照权利人受到的实际损失或者侵权人获得的利益确定。难以确定的,参照许可使用费的倍数合理确定。情节严重的,适用惩罚性赔偿,对故意侵权且情节严重的适用1至5倍惩罚性赔偿。

这是一个质的转变。在"钜锐案"(上海首例集成电路布图设计纠纷案)中,钜泉公司诉请赔偿1500万元,终审判决锐能微公司赔偿经济损失等共320万元。旧条例框架下,侵权代价与权利人诉求之间往往存在巨大落差。

新条例下,故意侵权且情节严重的将适用1至5倍惩罚性赔偿,这意味着侵权成本核算逻辑的根本改变,抄袭一张布图的代价,可能不再是"被发现后赔一次",而是"按许可费数倍持续买单"。

配合条例明确要求法人对符合条件的创作人员给予合理奖励和报酬,整个制度设计形成了"激励创作—明确权利—严惩侵权"的闭环。

产业影响:谁受益,谁承压

受益方:

  • IC设计企业尤其是从事硅光、量子芯片、Chiplet互联设计的公司,专有权基础更牢固。而1到5倍罚款也给了中小芯片设计企业对抗大厂抄袭的法律工具

  • IP供应商独创性声明制度让IP授权合同的维权取证更直接

承压方:

  • 依赖反向工程的跟随型企业侵权成本陡增,旧有的"抄近路"模式难以为继

  • 虚假登记申请人条例明确规定登记申请应当以真实创作活动为基础,不得弄虚作假,从源头上规制虚假申请行为

  • 封装测试厂虽然最高法在(2022)最高法知民终565号案中明确,缺乏证据时不能当然认定封装企业知道权利状况,但收到起诉状后就要支付合理报酬,合规审查义务实际上抬升

一个值得持续观察的问题

条例修订解决了"规则供给",但规则的执行强度仍要在2026年10月15日之后的司法实践中检验。最高法(2025)最高法知民终452号案已经展现出法院在布图设计侵权诉讼中对权利基础的主动审查倾向,即便是已获登记的布图设计,若申请登记时间超过首次商业利用时间两年以上,法院不予保护。

这意味着:新条例的1至5倍惩罚性赔偿条款,将与法院对权利基础、独创性、商业利用时间的严格审查并行发挥作用。对于IC设计企业而言,专有权保护既是盾牌也是警钟,其自身布图设计的登记时机、独创性声明的撰写质量、商业利用时间的证据留存,将直接决定维权时的赔偿上限。

条例2026年10月15日施行,留给企业自查IP资产、补强登记文件的时间窗口约为70天。

本文来自微信公众号: TechSugar ,作者:谈芯

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