2026年7月27日，一条不到两百字的消息把华尔街砸了一个坑。

《The Information》报道：中国一家国资背景的上海公司，开始制造浸没式深紫外光刻机。它整合了几家中国公司的研发团队，其中包括一家叫上海宇量昇科技的公司。报道没有点名这家上海公司——知情人士要求不具名。

数量是：今年五台，明年二十台左右。首批交给中芯国际、华虹半导体、长鑫存储。

五台。

当天，ASML的股价一度下跌4.6%，收盘美股跌6.3%，创六月以来新低。应用材料、拉姆研究、科天同步跌了五到七个点。初步估算，ASML的市值蒸发了将近四百四十亿美元。

注意：ASML2026年来自中国的全部收入，预计在一百亿美元上下。市场在一天之内抹掉的，是它中国业务四年多的营收总额。

而对面是五台机器。

作为参照——去年一年，ASML自己出货了一百三十一台浸没式DUV。

所以市场定价的显然不是那五台机器。市场定价的是一个假设的破裂：EUV可以封锁，但DUV这一层，中国永远得买。这个假设支撑了ASML估值里那一部分被称作“垄断溢价”的东西。7月27日，它出现了第一道裂缝。

裂缝有多深，眼下没人知道。那台机器的技术水平，大致相当于ASML 2008年的Twinscan NXT：1950i——数值孔径1.35，套刻精度2.5纳米，分辨率38纳米。

也就是说，代差大约十八年。它主要由国产部件构成，仍有部分零件依赖进口。中芯国际从2025年9月开始试用，最乐观的说法是2027年进入量产。

十八年。

要理解十八年是个什么概念，要理解为什么五台机器能撬动四百四十亿美元，得先知道这条路有多长。

从一个美国人在军械实验室里给它取名字算起，六十九年。

命名（1957）

1957年秋天，美国陆军钻石军械引信实验室，一个叫杰伊·拉思罗普的年轻物理学家和同事詹姆斯·纳尔在做一件很笨的事。

他们要把晶体管做小，装进迫击炮引信里。手工不行，太大。有人想到显微镜——但不是用来看，是用来投。把显微镜倒过来，透镜不放大，缩小。

他们在锗片上涂了一层柯达的感光胶，让光穿过掩模投下去，显影，蚀刻。图案出来了。

拉思罗普给这个过程起了个名字：photolithography，用光印刷。

军方奖了他们25000美元。拉思罗普拿自己那份给家里买了一辆旅行车。

那一年他三十岁。六十九年后，他命名的这件事，成了地球上最贵、最难、最少人能做的一门手艺。

贴着做（1961—1972）

最早的光刻机很简陋。掩模直接压在硅片上，中间抽真空，压紧，防止透光走形。这叫接触式。

1961年春天，美国GCA公司旗下的大卫·曼恩部门推出第一台商用照相重复机——先把掩模缩小，再一格一格印到玻璃基板上。第一台卖给了Clevite公司。这台机器不做晶圆，只做掩模，但它是后来所有步进机的祖宗。

1965年，库力索法推出第一台商用接触式对准机。整个六十年代它几乎独占这个（其实很小的）市场。

那时候的芯片，线宽两百微米——两根头发丝那么粗。

也正是在这一档技术上，中国进了场。1966年，中科院109厂和上海光学仪器厂协作，做出65型接触式光刻机，由上海无线电专用设备厂生产、向全国推广。中国晚了五年。

五年，是那个年代能追的距离。

接触式有个致命毛病：掩模每压一次就磨损一点，压几十次就废了，而且一粒灰就是一个坏点。良率上不去。

不碰（1973）

1973年，柏金埃尔默推出Micralign，第一台商用投影式对准机。掩模不再接触硅片，中间隔着一组透镜，1：1投影。

结果是革命性的：良率从10%跳到70%。

柏金埃尔默三年之内成为全球最大的芯片设备供应商。Micralign最终卖出了两千多台。

一件东西一旦好用到这个程度，它的主人就很难再想别的了。这是这部历史里第一次出现的模式，后面还会出现三次。

一格一格走（1977—1980）

投影式的问题在于：它一次照亮整张晶圆。晶圆越来越大，透镜就必须越来越大，热变形随之而来。柏金埃尔默的套刻精度卡在两微米上下。

GCA走了另一条路：不照整片，一次只照一小块，照完机台移动一步，再照下一块。所以叫stepper，步进机。小视场意味着可以用小而精的高数值孔径透镜，还可以用缩小投影——掩模上的图案比硅片上的大十倍，做掩模的难度一下子降了一个数量级。

1977年，样机送进IBM。1978年，DSW 4800正式发布：g线光源，十倍缩小，蔡司0.28数值孔径镜头，10×10毫米视场。

这台机器定下了此后半个世纪光刻机的基本形制。今天ASML最贵的那台，架构上仍然是DSW 4800的后代。

一个被人反复讲起的插曲：GCA差点用尼康的镜头，最后选了蔡司，理由是焦面均匀性更好。这个决定在当时看只是采购，四十年后看是产业地理。

DSW 4800一台五十万美元，是柏金埃尔默投影机的三十多倍。IBM、AT&T、仙童、国家半导体，这些大厂付得起。其余的人付不起。

十年之内，美国输光了（1980—1993）

付不起的人在日本。

尼康的NSR系列走的是同一条路，但做了三件事：光源更亮，视场更大（5:1缩小），加了激光干涉仪工作台和自动对准。翻译成人话——同样的精度，出片更快。

1982年，尼康在硅谷设立尼康精机。它从GCA手里一个一个挖走客户：IBM、AT&T、英特尔、RCA、德州仪器、AMD。1985年，尼康的营收超过GCA。

1984年，佳能的第一台步进机FPA-1500FA出货。日本本土市场消化掉了全球步进机产量中相当大的一块——加藤笃彦的编年记载，这一年全球出货中有近六百台留在了日本国内。本土市场把佳能托了起来。

数字是这样变的：1980年，美国厂商占全球光刻机市场的90%。到1990年，剩下大约10%。GCA和Ultratech各占四到五个点，SVGL大概一个点。

1990年，柏金埃尔默把光刻业务卖给硅谷集团（SVG）。1993年，GCA被解散——母公司General Signal找不到买家。它的专利转给了一家小公司，后来被Ultratech吃掉。

美国政府不是没管。DARPA投过钱，SEMATECH投过钱，用纳税人的钱把GCA和柏金埃尔默的机器重新做到能打的水平。可是美国的芯片公司不买。他们跟尼康、佳能有更好的关系，能更早拿到新机器。

这里有一个问题当时就有人问出来了：既然不打算买，为什么还要政府出钱？

美国不是被封锁掉这个产业的。它是自己放手的。发明了光刻，做出了第一台照相重复机、第一台投影机、第一台步进机，然后在十年之内退出。

荷兰人的棚子（1984—2001）

1984年，飞利浦和ASM国际合资成立ASML，办公地点是飞利浦埃因霍温园区里一间会漏雨的棚屋。

头几年很难看。1985年第一台商用步进机PAS 2000/10出货，主要客户是赛普拉斯半导体。1990年，ASM国际把股份卖了，退出。1995年，ASML在阿姆斯特丹和纳斯达克两地上市，那时握有约四分之一的全球份额——而且抢的主要是美国人的份额，不是日本人的。

真正的转折在2001年，两件事同时发生。

一是TWINSCAN平台问世。它有两个工件台：一片晶圆在曝光，另一片同时在旁边测量和对准，曝完直接换位。这在物理上是把机器一分为二，在商业上是把产能翻了近一倍。

二是ASML收购硅谷集团。SVG是柏金埃尔默的血脉，也是英特尔最主要的光刻供应商。买下SVG，ASML拿到了进英特尔的门，美国也就此彻底退出了光刻机制造。

水（2002—2007）

2000年前后，行业撞墙了。

193纳米的氟化氩激光已经用到极限。下一步公认是157纳米的氟激光——更短的波长，更细的线。全世界都往那儿投钱。可是157纳米的光会被大多数材料吸收，镜片要用氟化钙，光刻胶要重做，一切都得重来，而且贵得离谱。

2002年，一个叫林本坚的人在SEMATECH的研讨会上提了另一个方案。他当时是台积电研发副总。

他说：不要换光源。在镜头和硅片之间灌一层水。

水的折射率约1.44。193纳米的光进了水，等效波长变成约134纳米——比157还短，而且什么都不用换。分辨率提升约四成，成本几乎为零。

这个想法太朴素了，所以最初没人信。水会有气泡、会有水渍、会流得到处都是，怎么可能塞进一台精度以纳米计的机器里。

ASML信了。飞利浦研究院早年做高密度光盘时研究过浸没式透镜，知道怎么把一层水稳稳托在镜头下面不散。蔡司在德国把镜片改了。2003年秋天，原型机TWINSCAN AT:1150i拍出了第一批像。

后面的节奏很快：2004年第一台商用浸没机XT:1250i（NA 0.85）出货给台积电和IBM；2006年XT:1700i（NA 1.2），第一台真正量产用的浸没机；2007年XT:1900i，数值孔径1.35。

1.35，这个数字从此再没被超过。水的折射率就在那里，物理到头了。此后二十年，全世界所有的浸没式DUV，顶格就是1.35。

尼康的第一台浸没原型机2004年10月才完成，晚了近两年。佳能一台都没做出来。

157纳米这条路，全行业投进去的钱全部打了水漂。

这是这部历史里第二次：不是技术打败技术，是押注打败押注。

把太阳搬进机器里（1985—2019）

光学到1.35就到顶了。要再往下，只能换光源。

十三点五纳米的极紫外光，最早是八十年代中期日本的木下博雄做出第一张EUV成像，基础是七十年代苏联人的多层膜反射镜研究。

这个波长有个要命的性质：它被空气吸收，被玻璃吸收，被几乎所有东西吸收。所以不能用透镜，只能用镜子；不能在空气里跑，整台机器必须抽成真空。

1992年，英特尔投两亿美元，钱主要流向桑迪亚、劳伦斯利弗莫尔和贝尔实验室。1994年美国组建国家EUV光刻计划，由DARPA和能源部牵头。1996年，国会把能源部这笔钱砍了。

1997年，SEMATECH召集的技术评估把四条下一代路线排了个序。EUV排在最后一名，落后于X射线、电子束和离子投影。

后来的事众所周知：排最后那条赢了。但它赢得极其难看——从1997年排在末位，到2018年10月三星用EUV量产7LPP、2019年二季度台积电N7+跟上，中间隔了二十一年。

关键节点：

2006年，ASML交付第一台EUV原型机，光源功率弱得没法用。

2010年，第一台NXE:3100送到三星，圣诞夜实现“第一束光”。

2012年，英特尔、台积电、三星参加客户共同投资计划，出钱、出五年研发承诺，并买入ASML股权。

2013年，ASML以二十五亿美元收购光源公司Cymer。

2016年，NXE:3400开始被成批下单，拐点出现。

2020年初，第一百台EUV出货。

光是怎么来的？一颗锡液滴在真空里飞，两束二氧化碳激光先后打上去，第一束把它压扁，第二束把它汽化成等离子体，辐射出13.5纳米的光。每秒五万次。

这台机器有超过十万个零件。运一台要四十个货柜、三架货机、二十辆卡车。ASML在EUV上砸进去的研发费超过六十亿欧元。

2023年12月，第一台High-NA机型EXE交付，数值孔径从0.33提到0.55。

价格是这样的：现役的Low-NA EUV，一台约一亿七千万欧元。High-NA的EXE，约三亿五千万欧元。后者重一百五十吨，运输要二百五十个板条箱，装机要二百五十名工程师干六个月。

一台机器，抵得上一架宽体客机。而它一年只造得出几十台。

垄断的形状

现在的样子：EUV，全世界只有ASML一家能造。浸没式DUV，ASML占约98.7%。尼康还在，但只在成熟制程有零星份额。佳能早就走了，改做纳米压印。

2025年，ASML营收327亿欧元。中国市场曾占它41%（2024），2025年降到33%，2026年预计约20%。

尾声：这部历史真正的规律

把六十九年压缩成一句话，它不是一部发明史。

它是一部“谁被客户养活”的历史。

四次接力，四次都不是技术输给技术：

柏金埃尔默不是不懂步进机，是它的投影机太好卖了。GCA不是产品不行，是美国的芯片公司不肯买美国的机器。尼康不是做不出浸没式，是它把注押在157纳米上，而做这个判断的人不在客户的产线上。ASML能活下来，是因为2012年台积电、英特尔、三星愿意提前把钱和股权押进一台还不能工作的机器里。

一台光刻机的迭代周期是十年。没有哪家设备公司能靠自己的现金流熬过十年。它必须被人养。养它的人必须一边容忍它不好用，一边把订单下下去，一边把工程师派进对方的车间。

这就是为什么光刻机这件事，从来不是“能不能造出来”的问题。

样机谁都能做。1966年上海就做出来了。1985年机电部45所的分步投影光刻机样机通过电子部鉴定时，据当时的鉴定意见，性能接近美国GCA的4800DSW——这个说法出自国内的行业回忆材料，未见一手技术文档佐证，但即便打个折扣，差距也是可以用年计的，不是用代计的。

问题一直是：造出来之后，谁肯用第一台不好用的？谁肯用第二台还是不太好用的？谁肯用到第十台？

美国有过发明，没有守住这个耐心。日本有过耐心，赌错了一次方向。荷兰什么都没有——没有硅片厂，没有芯片设计，国土还没一个省大——但它的三个客户，愿意跟它一起熬二十一年。

一束光走了六十九年。走完全程的，从来不是光。

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No.7013原创首发文章｜作者周落实

资料来源：编年与技术细节：Atsuhiko Kato,Chronology of Lithography Milestones（lithoguru.com）——本文时间线主干；Chris Mack,Milestones in Optical Lithography Tool Suppliers（lithoguru.com）；Computer History Museum,The Silicon Engine：1955/1957拉思罗普与纳尔条目；ASML官方史料：Our history/Making EUV:from lab to fab/TWINSCAN:20 years；Jay W.Lathrop,"The Diamond Ordnance Fuze Laboratory's Photolithographic Approach to Microcircuits," IEEE Annals of the History of Computing,35(1),2013；Flagello&Arnold,"Optical Lithography for Nanotechnology," Proc.SPIE 6327

产业史与分析：Chris Miller,Chip War（2022）；Rebecca Henderson,"Of Life Cycles Real and Imaginary:The Unexpectedly Long Old Age of Optical Lithography," Research Policy 24(1995)——解释柏金埃尔默为何守不住；Brian Potter,"How ASML Got EUV," Construction Physics（2025）；Jon Y(Asianometry),"How Japan Won the Lithography Industry"/"A Deep Dive into Immersion Lithography"；Van Atta et al.,"The Tunnel at the End of the Light," Issues in Science and Technology；MIT Technology Review,"The chip patterning machines that will shape computing's next act"（2023）

中国部分：中国科学院微电子研究所所史（109厂1958—1986）

当前数据：ASML 2025年报及2026年一季度业绩说明；Caixin/SCMP关于ASML中国区营收占比的报道（2026年1月、4月）

本文来自微信公众号： 秦朔朋友圈 ，作者：周落实